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技術(shù)文章

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工業(yè)烘箱的安全使用
工業(yè)烘箱的安全使用

工業(yè)烘箱需按照產(chǎn)品說明書規(guī)定的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行生產(chǎn),切忌超溫,切忌為了快速干燥而采用超過產(chǎn)品烘烤溫度,達(dá)到產(chǎn)品所需溫度后,箱內(nèi)屬于恒溫狀態(tài),這時(shí)可停止加熱,減少電能的消耗,節(jié)約成本,間接提高生產(chǎn)效率。在升溫過程中不要頻繁開門進(jìn)行取放產(chǎn)品、觀測產(chǎn)品,這樣將導(dǎo)致熱量大量損失,加熱升溫慢,能耗加大;在設(shè)計(jì)時(shí)一定要保證保溫層厚度,特別是溫度超過300℃以上的烘箱,保溫層一定要足夠厚,確保烘箱外壁的溫度與環(huán)境...

2025-03-31
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  • 高溫烘箱不能滿載的原因

    據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求高溫烘箱的工作室容積至少應(yīng)是被測試產(chǎn)品外廓體積的3~5倍,其理由如下:1、被測試產(chǎn)品置入箱體后擠占了流暢的通道,通道變窄將導(dǎo)致氣流流速的增加,加速氣流與被測試產(chǎn)品之間的熱交換。這與環(huán)境條件的再現(xiàn)不符,因?yàn)樵谟嘘P(guān)標(biāo)準(zhǔn)中對涉及溫度環(huán)境試驗(yàn)都規(guī)定高低溫試驗(yàn)箱內(nèi)試驗(yàn)樣件周圍的空氣流速不應(yīng)超過1.7m/s,以防止試驗(yàn)樣件和周圍氣氛產(chǎn)生不符合實(shí)際的熱傳導(dǎo),在空載時(shí)試驗(yàn)箱內(nèi)平均風(fēng)速為0.6~0.8m/s,不超過1m/s,滿足以上要求所規(guī)定的空間及面積比時(shí),流場的風(fēng)速可能增大(50...

    20253-9
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  • 高低溫試驗(yàn)箱的工作原理

    1、制冷系統(tǒng):制冷系統(tǒng)是綜合環(huán)境試驗(yàn)箱的要害部分之一。一般來說,愛義信高低溫試驗(yàn)箱的制冷方式都是機(jī)械制冷以及輔助液氮制冷,機(jī)械制冷采用蒸汽壓縮式制冷,它們主要由壓縮機(jī),冷凝器,節(jié)流機(jī)構(gòu)和蒸發(fā)器組成,由于我們試驗(yàn)的溫度低溫要達(dá)到-55℃,單級制冷難以滿足滿足要求,因此試驗(yàn)箱的制冷方式一般采用復(fù)疊式制冷。我司生產(chǎn)的環(huán)境箱的制冷系統(tǒng)由兩部分組成,分別稱為高溫部分和低溫部分,每一部分是一個(gè)相對的制冷系統(tǒng)。高溫部分中制冷劑的蒸發(fā)吸收來自低溫部分的制冷劑的熱量而汽化;低溫部分制冷劑的蒸發(fā)...

    20253-7
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  • 環(huán)境試驗(yàn)箱的溫控方式

    氣候環(huán)境試驗(yàn)——恒溫恒濕試驗(yàn)箱、高低溫試驗(yàn)箱、冷熱沖擊試驗(yàn)箱、濕熱交變試驗(yàn)箱、快速溫變試驗(yàn)箱、線性溫變試驗(yàn)箱、步入式恒溫恒濕試驗(yàn)房等;都會涉及到溫度的控制因?yàn)橛卸鄠€(gè)可供選擇的溫度控制點(diǎn),氣候環(huán)境試驗(yàn)箱溫度控制方法也有三種方案:進(jìn)風(fēng)口溫度控制、產(chǎn)品溫度控制和“復(fù)疊式"溫度控制。前兩種都是單點(diǎn)型溫度控制,第三種是雙參數(shù)型溫度控制。單點(diǎn)型溫度控制方法已經(jīng)非常成熟,且應(yīng)用較多。早期的控制方式多數(shù)是“乒乓式"的開關(guān)控制,俗稱冷了加熱,熱了給冷,這種控制方式是反饋控制方式,當(dāng)實(shí)測到循環(huán)氣...

    20253-6
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  • 晶圓烘箱的應(yīng)用

    晶圓烘箱用于晶圓、半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門;也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。工作原理主要基于熱對流方式。在烘箱內(nèi)部,通過電熱器等產(chǎn)生熱風(fēng),使熱風(fēng)循環(huán)流動,從而對待烘干的半導(dǎo)體材料進(jìn)行均勻地加熱和干燥。這種加熱方式特別適合處理較厚的半導(dǎo)體材料,并能達(dá)到較好的烘干效果。晶圓烘箱通常具有多種特性,例如密封性能好、置物架設(shè)計(jì)...

    20253-4
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  • 如何處理HMDS使用中的常見問題

    在HMDS(六甲基二硅氮烷)使用過程中,附著力不足和污染是兩大常見問題。以下是針對這些問題的系統(tǒng)性解決方案,涵蓋原因分析、解決措施及預(yù)防策略:一、附著力不足的解決方案1.原因分析與對應(yīng)措施1,基底清潔:強(qiáng)化清洗流程:SC1(NH?OH/H?O?/H?O)清洗→超純水沖洗→氮?dú)飧稍?增加氧等離子體清洗(100W,1–2分鐘)2,HMDS失效或污染:更換新鮮HMDS(儲存條件:密封充氮,濕度<30%)-驗(yàn)證HMDS有效期(通常開封后≤6個(gè)月)3,工藝參數(shù)偏差:優(yōu)化參數(shù):溫度升至1...

    20253-3
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  • HMDS在特定工藝中的具體參數(shù)設(shè)置

    HMDS(六甲基二硅氮烷)在光刻工藝中的參數(shù)設(shè)置直接影響光刻膠的附著力與工藝穩(wěn)定性。以下是不同應(yīng)用場景下的具體參數(shù)設(shè)置及優(yōu)化建議:一、半導(dǎo)體制造(硅片光刻)1.HMDS氣相處理(VaporPriming)溫度:130°C(適用于大部分邏輯芯片工藝);先進(jìn)制程(如EUV光刻):140–150°C(增強(qiáng)表面反應(yīng)活性)。典型范圍:120–150°C優(yōu)化建議:時(shí)間:蒸汽暴露:30–60秒(確保HMDS充分?jǐn)U散至表面);烘烤:1–2分鐘(促進(jìn)化學(xué)鍵形成)。氣體混合比例:HMDS:氮?dú)猓?..

    20253-1
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  • HMDS烘箱的應(yīng)用

    HMDS烘箱主要用于半導(dǎo)體和微電子制造中的光刻工藝,具體應(yīng)用如下:1.去除光刻膠中的溶劑預(yù)烘烤:在涂覆光刻膠后,HMDS烘箱通過加熱去除膠中的溶劑,增強(qiáng)膠與基底的附著力。2.增強(qiáng)附著力HMDS處理:HMDS作為增附劑,烘箱加熱使其與基底表面反應(yīng),形成化學(xué)鍵,提升光刻膠的附著力。3.提高光刻精度均勻加熱:烘箱提供均勻加熱,確保光刻膠厚度一致,減少缺陷,提升圖案精度。4.工藝穩(wěn)定性精確控溫:烘箱具備精確的溫度控制,確保工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性。5.提高生產(chǎn)效率批量處理:可同時(shí)處理多個(gè)晶...

    20252-28
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  • 全自動氮?dú)夤竦膽?yīng)用你了解多少?

    全自動氮?dú)夤裰饕缘獨(dú)鉃楸Wo(hù)氣體,通過控制柜內(nèi)的氣體濃度和溫度,確保樣品在低氧或低溫環(huán)境中存儲。該設(shè)備是使用氮?dú)獾亩栊裕苊庋鯕夂退謱悠吩斐蓳p害。氮?dú)獠坏軌蛴行p緩樣品的氧化和水解反應(yīng),還能為某些易揮發(fā)物質(zhì)提供必要的保護(hù)。全自動氮?dú)夤竦膽?yīng)用領(lǐng)域十分廣泛:1.食品加工:用于食品的保鮮和保存,延長食品的保質(zhì)期。2.化工:用于惰性氣體保護(hù)反應(yīng)過程中的原料和產(chǎn)物,保證反應(yīng)的純度和效果。3.制藥:保護(hù)藥品的純度和質(zhì)量,防止其受到濕氧的污染。4.半導(dǎo)體:廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過程中的...

    20252-27
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  • 不銹鋼氮?dú)夤裉攸c(diǎn)與應(yīng)用介紹

    不銹鋼氮?dú)夤袷且环N用于存儲對濕度、氧氣敏感的物料或設(shè)備的專用設(shè)備,廣泛應(yīng)用于電子、化工、醫(yī)藥、食品等行業(yè)。以下是關(guān)于不銹鋼氮?dú)夤竦脑敿?xì)介紹:主要特點(diǎn)材質(zhì):采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼(如304或316不銹鋼),具有耐腐蝕、耐高溫、易清潔的特點(diǎn)。柜體結(jié)構(gòu)堅(jiān)固,密封性能好,適合高潔凈度環(huán)境。氮?dú)猸h(huán)境:通過注入高純度氮?dú)?,降低柜?nèi)氧氣濃度,防止物料氧化或受潮。通常配備氧氣濃度監(jiān)測裝置,確保柜內(nèi)氧氣濃度維持在設(shè)定范圍內(nèi)(如低于1%)。濕度控制:內(nèi)置濕度控制系統(tǒng),可將柜內(nèi)濕度控制在極低水平(如低于1...

    20252-27
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  • 氮?dú)獗Wo(hù)烘箱具有良好的耐腐蝕性和耐高溫性

    氮?dú)獗Wo(hù)烘箱是一種專門設(shè)計(jì)用于在氮?dú)猸h(huán)境下進(jìn)行加熱和干燥的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)合成、電子器件和生物醫(yī)藥等領(lǐng)域。主要功能是通過氮?dú)獾亩栊?,使樣品在高溫條件下不與空氣中的氧氣反應(yīng),從而防止氧化、酯化等不良反應(yīng)。氮?dú)庀啾扔诳諝夂趿繕O低,能夠有效抑制火災(zāi)的發(fā)生及材料的劣化。氮?dú)獗Wo(hù)烘箱的結(jié)構(gòu)組成:1.外殼:一般采用不銹鋼或噴塑材料,具有良好的耐腐蝕性和耐高溫性。2.內(nèi)膽:內(nèi)膽多采用耐高溫材料,具備良好的熱傳導(dǎo)性。3.加熱系統(tǒng):通常為電加熱系統(tǒng),確保加熱均勻。4.溫控系統(tǒng):...

    20252-23
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  • 半導(dǎo)體行業(yè)的無氧無塵烘箱的應(yīng)用

    無氧無塵烘箱是半導(dǎo)體行業(yè)中一種重要的設(shè)備,在半導(dǎo)體制造過程中,烘干是一個(gè)非常關(guān)鍵的步驟,可以保證芯片表面的水分和有機(jī)物被去除,從而提高芯片的品質(zhì)和性能。而無氧無塵烘箱就是專門為半導(dǎo)體芯片烘干而設(shè)計(jì)的設(shè)備。一、半導(dǎo)體芯片的后續(xù)加工在半導(dǎo)體芯片的制造過程中,首要將硅片進(jìn)行切割,然后進(jìn)行腐蝕、清洗等處理,ZUI后進(jìn)行電鍍和烘干,形成ZUI終的芯片產(chǎn)品。烘干是半導(dǎo)體制造過程中重要的一步,可以去除芯片表面的水分和有機(jī)物,保證芯片的品質(zhì)和性能。二、無氧無塵烘箱的作用無氧無塵烘箱是專門為半...

    20252-22
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  • 高低溫濕熱試驗(yàn)機(jī)具備較高的耐用性和穩(wěn)定性

    高低溫濕熱試驗(yàn)機(jī)(又稱為環(huán)境試驗(yàn)箱、濕熱試驗(yàn)機(jī))是一種廣泛應(yīng)用于各種行業(yè)的設(shè)備,主要用于模擬不同環(huán)境條件下,尤其是高溫、低溫和濕熱條件下的產(chǎn)品或材料性能測試。能夠?yàn)檠邪l(fā)人員、工程師和生產(chǎn)商提供可靠的數(shù)據(jù)支持,以確保產(chǎn)品在特殊環(huán)境條件下的穩(wěn)定性和可靠性。主要用于測試材料、元件、設(shè)備或成品在溫濕度變化環(huán)境下的耐受性。它能夠通過設(shè)定溫度、濕度范圍,以及循環(huán)的時(shí)間來模擬實(shí)際使用過程中可能遇到的高溫、高濕、低溫、干燥等條件。常見的測試方法包括高低溫交變試驗(yàn)、恒定高低溫試驗(yàn)和濕熱試驗(yàn)等。...

    20252-17
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